旋轉(zhuǎn)涂膜機適用于半導體、晶體、CD、制版等表面鍍膜工藝，可用于強酸和強堿涂膜溶液的涂膜制備。該機可以對鍍膜機的腔體抽真空，使樣品在真空的狀態(tài)下進行鍍膜，適合使用在空氣中容易氧化變質(zhì)的薄膜材料。鍍膜機工作時，樣品通過真空托盤吸附固定在樣品裝載托盤上。該設備可存儲12組程序，每組程序包含6個運行階段。設備在不同運行階段的不同轉(zhuǎn)數(shù)，使設備緩慢提高到極限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，不會浪費太多，從而節(jié)省材料，具有操作簡單、清洗方便、體積小等優(yōu)點，主要用于各大學和研究所的實驗室生成薄膜。
 

　　

　　1、旋轉(zhuǎn)涂膜機共有12組程序，每組包括6個運行階段。每級升降速率的設定范圍為100-2000rpm/s，每級時間范圍為0-60s。

　　

　　2、樣品可以通過真空吸附或粘接或夾緊來固定，操作簡單。

　　

　　3、吸盤的真空度可以達到-0.08MPa。

　　

　　4、使用定位工具，樣品可以很容易地放置在中心位置，以減少偏心引起的振動或飛片。

　　

　　5、可根據(jù)樣品規(guī)格使用不同的吸盤，更換方便簡單。

　　

　　6、電機采用DC無刷電機，無級調(diào)速，可靠性高，適應性強，維修保養(yǎng)簡單，噪音低，振動小，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，啟動快速平穩(wěn)，加速后運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，能保證涂層厚度的一致性和均勻性。

　　

　　7、真空吸附固定樣品時，采用無油平行桿真空泵，具有體積小、結(jié)構(gòu)簡單、操作簡單、維修方便、無環(huán)境污染等優(yōu)點。

　　

　　8、涂覆可以在惰性氣體氣氛中進行。

　　

　　9、涂覆可以在真空狀態(tài)下進行。此時，需要通過粘合基板或夾緊基板來固定涂覆的基板。

　　

　　10、旋轉(zhuǎn)涂膜機腔體整體由聚丙烯制成，使用壽命更長，耐化學腐蝕性能提高，抗應力開裂性能優(yōu)異。

　　

　　11、具有開蓋保護功能。當涂層過程中或涂層結(jié)束時打開蓋子時，機器將快速減速直至停止。

　　

　　12、控制器采用控制箱，液晶顯示數(shù)值，更加直觀可靠。